国林科技：公司半导体臭氧产生设备多用于Fab工厂的晶圆制作环节
发布日期： 2024-01-18 | 浏览次数： 1 | 作者: 制氧机配套产品
每经AI快讯，有投入资金的人在出资者互动渠道发问：请问公司的半导体臭氧产生设备是用在芯片制作的什么环节啊？是晶圆厂、封装厂仍是光刻厂？
国林科技（300786.SZ）8月3日在出资者互动渠道表明，公司半导体臭氧产生设备多用于Fab工厂的晶圆制作环节，首要供给清洗、氧化、薄膜堆积工艺制程的运用。
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